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歡迎光(guāng)臨 昆山市(shì)盈拓電(diàn)子設備有(yǒu)限公(gōng)司 官网(wǎng)!
等離子電(diàn)暈表(biǎo)面(miàn)設備

表(biǎo)面(miàn)處(chù)理(lǐ)設備

VacuTEC-5050 标(biāo)準型真(zhēn)空(kōng)等離子設備

産品特(tè)征:

·安(ān)裝(zhuāng)方(fāng)便
·使用(yòng)简單
·處(chù)理(lǐ)速度快(kuài)
·真(zhēn)空(kōng)度
·可(kě)接入(rù)輔助气(qì)體(tǐ)
·过(guò)程控制
·低成(chéng)本(běn)處(chù)理(lǐ)方(fāng)式



Tantecs VacuTEC 5050真(zhēn)空(kōng)等離子處(chù)理(lǐ)是(shì)适合大(dà)一(yī)些(xiē)的(de)不(bù)同(tóng)材质的(de)注塑産品的(de)處(chù)理(lǐ)。該設備快(kuài)速的(de)處(chù)理(lǐ)速度为(wèi)下(xià)遊工藝的(de)图(tú)层(céng)、胶水(shuǐ)、印(yìn)刷、噴涂提(tí)供了(le)最(zuì)佳的(de)産品表(biǎo)面(miàn)能(néng)與(yǔ)很好(hǎo)的(de)結合性。 


該設備的(de)真(zhēn)空(kōng)腔體(tǐ)與(yǔ)智能(néng)集成(chéng)等離子電(diàn)极(jí)組合實(shí)現(xiàn)了(le)在(zài)0.1-- 3Mbar状态下(xià)等離子體(tǐ)的(de)精準放(fàng)電(diàn),同(tóng)时(shí)處(chù)理(lǐ)时(shí)間(jiān)也(yě)很短(duǎn),一(yī)般状态下(xià)針(zhēn)对(duì)不(bù)同(tóng)的(de)材料有(yǒu)不(bù)同(tóng)的(de)組合方(fāng)案(àn)處(chù)理(lǐ)时(shí)間(jiān)一(yī)般控制在(zài)20-120秒(miǎo)左(zuǒ)右(yòu)。


VacuTEC2020真(zhēn)空(kōng)等離子處(chù)理(lǐ)設備具有(yǒu)操作(zuò)简單、生(shēng)産加工速度快(kuài)等優點(diǎn)。處(chù)理(lǐ)过(guò)程中(zhōng)可(kě)以(yǐ)加入(rù)像氩和(hé)氧气(qì)等輔助气(qì)體(tǐ)来(lái)提(tí)升(shēng)表(biǎo)面(miàn)處(chù)理(lǐ)效果(guǒ),但在(zài)大(dà)多(duō)數情(qíng)況下(xià),因(yīn)为(wèi)高(gāo)功率的(de)等離子體(tǐ)放(fàng)電(diàn)一(yī)般不(bù)需要(yào)气(qì)體(tǐ)来(lái)輔助參與(yǔ)。


VacuTEC2020采用(yòng)先(xiān)進(jìn)的(de)Tantec主(zhǔ)機(jī)HV-X系(xì)列作(zuò)为(wèi)電(diàn)源,特(tè)别設計(jì)的(de)高(gāo)頻高(gāo)壓變(biàn)壓器为(wèi)等離子體(tǐ)電(diàn)极(jí)提(tí)供了(le)強(qiáng)大(dà)的(de)功率輸出(chū)。

Tantec不(bù)僅有(yǒu)标(biāo)準的(de)真(zhēn)空(kōng)技術(shù)設備,也(yě)有(yǒu)定(dìng)制設計(jì)的(de)設備。真(zhēn)空(kōng)技術(shù)定(dìng)制機(jī)器是(shì)專門(mén)以(yǐ)客戶标(biāo)準開(kāi)發(fà)的(de)来(lái)100%适應(yìng)客戶的(de)生(shēng)産線(xiàn)。


特(tè)點(diǎn):
·安(ān)裝(zhuāng)简便 僅需連(lián)接電(diàn)源和(hé)壓縮空(kōng)气(qì)。
·處(chù)理(lǐ)速度快(kuài) 高(gāo)效的(de)輸出(chū)功率可(kě)以(yǐ)實(shí)現(xiàn)不(bù)同(tóng)的(de)材料在(zài)20-120秒(miǎo)之(zhī)內(nèi)即可(kě)完成(chéng)快(kuài)速處(chù)理(lǐ)。
·维護简單 本(běn)設備安(ān)裝(zhuāng)方(fāng)便,操作(zuò)简單,便于维護。
·腔體(tǐ)門(mén)設計(jì) 采用(yòng)鉸鍊(liàn)連(lián)接加視窗(chuāng)設計(jì)方(fāng)案(àn)。
·适用(yòng)範圍 可(kě)以(yǐ)适用(yòng)于導體(tǐ)和(hé)非(fēi)導體(tǐ)的(de)任何材料表(biǎo)面(miàn)。
·低成(chéng)本(běn)處(chù)理(lǐ)工藝 幾(jǐ)乎不(bù)需要(yào)任何輔助气(qì)
·處(chù)理(lǐ)过(guò)程监控 整个(gè)處(chù)理(lǐ)过(guò)程HV-X主(zhǔ)機(jī)與(yǔ)PLC實(shí)时(shí)监控,所有(yǒu)的(de)參數都顯示在(zài)觸摸屏上(shàng)。
·真(zhēn)空(kōng)度 針(zhēn)对(duì)于不(bù)同(tóng)的(de)材料等離子設備释放(fàng)區(qū)域在(zài)0.1-3Mba之(zhī)間(jiān)可(kě)以(yǐ)随意(yì)設定(dìng)。
·輔助气(qì)體(tǐ) 處(chù)理(lǐ)过(guò)程中(zhōng)可(kě)以(yǐ)加入(rù)像氩气(qì)、氧气(qì)、氮气(qì)的(de)輔助气(qì)體(tǐ),但一(yī)般情(qíng)況下(xià)不(bù)需要(yào)。




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